SiC பூசப்பட்ட செதில் கேரியர்

சிப் உற்பத்தி செதில்களிலிருந்து பிரிக்க முடியாதது. செதில் தயாரிப்பு செயல்பாட்டில், இரண்டு முக்கிய இணைப்புகள் உள்ளன: ஒன்று அடி மூலக்கூறு தயாரித்தல், மற்றொன்று எபிடாக்சியல் செயல்முறையை செயல்படுத்துதல். செமிகண்டக்டர் சாதனங்களை உற்பத்தி செய்வதற்காக அடி மூலக்கூறு நேரடியாக செதில் உற்பத்தி செயல்முறையில் வைக்கப்படலாம் அல்லது மேலும் மேம்படுத்தலாம்எபிடாக்சியல் செயல்முறை. 

எபிடாக்ஸி என்பது ஒரு படிகத்தின் ஒரு புதிய அடுக்கை ஒரு படிக அடி மூலக்கூறில் நன்றாக பதப்படுத்தப்பட்ட (வெட்டுதல், அரைத்தல், மெருகூட்டுதல் போன்றவை) வளர்ப்பதாகும். புதிதாக வளர்ந்த ஒற்றை படிக அடுக்கு அடி மூலக்கூறின் படிக கட்டத்திற்கு ஏற்ப விரிவடையும் என்பதால், இது எபிடாக்சியல் அடுக்கு என்று அழைக்கப்படுகிறது. அடி மூலக்கூறில் எபிடாக்சியல் அடுக்கு வளரும் போது, ​​முழுதும் எபிடாக்சியல் வேஃபர் என்று அழைக்கப்படுகிறது. எபிடாக்சியல் தொழில்நுட்பத்தின் அறிமுகம் ஒற்றை அடி மூலக்கூறுகளின் பல குறைபாடுகளை புத்திசாலித்தனமாக தீர்க்கிறது.

எபிடாக்சியல் வளர்ச்சி உலையில், அடி மூலக்கூறை தோராயமாக வைக்க முடியாது, மற்றும் ஏசெதில் கேரியர்அடி மூலக்கூறில் எபிடாக்சியல் படிவு செய்வதற்கு முன், அடி மூலக்கூறை வேஃபர் ஹோல்டரில் வைக்க வேண்டும். இந்த செதில் வைத்திருப்பவர் SiC பூசப்பட்ட செதில் கேரியர் ஆகும்.

EPI உலையின் குறுக்கு வெட்டுக் காட்சி

உயர்தரம்SiC பூச்சுCVD தொழில்நுட்பத்தைப் பயன்படுத்தி SGL கிராஃபைட்டின் மேற்பரப்பில் பயன்படுத்தப்படுகிறது:

SiC பூச்சு உதவியுடன், பல பண்புகள்SiC பூசப்பட்ட செதில் வைத்திருப்பவர்கணிசமாக மேம்படுத்தப்பட்டுள்ளது:

●  ஆக்ஸிஜனேற்ற பண்புகள்: SiC பூச்சு நல்ல ஆக்சிஜனேற்ற எதிர்ப்பைக் கொண்டுள்ளது மற்றும் கிராஃபைட் மேட்ரிக்ஸை அதிக வெப்பநிலையில் ஆக்சிஜனேற்றத்திலிருந்து பாதுகாத்து அதன் சேவை வாழ்க்கையை நீட்டிக்கும்.

●  உயர் வெப்பநிலை எதிர்ப்பு: SiC பூச்சு உருகும் புள்ளி மிகவும் அதிகமாக உள்ளது (சுமார் 2700 ° C). கிராஃபைட் மேட்ரிக்ஸில் SiC பூச்சு சேர்த்த பிறகு, அது அதிக வெப்பநிலையைத் தாங்கும், இது எபிடாக்சியல் வளர்ச்சி உலை சூழலில் பயன்பாட்டிற்கு நன்மை பயக்கும்.

●  அரிப்பு எதிர்ப்பு: சில அமில அல்லது கார சூழல்களில் கிராஃபைட் இரசாயன அரிப்புக்கு ஆளாகிறது, அதே சமயம் SiC பூச்சு அமிலம் மற்றும் கார அரிப்புக்கு நல்ல எதிர்ப்பைக் கொண்டுள்ளது, எனவே இது நீண்ட காலத்திற்கு எபிடாக்சியல் வளர்ச்சி உலைகளில் பயன்படுத்தப்படலாம்.

●  வியர் ரெசிஸ்டன்ஸ்: SiC பொருள் அதிக கடினத்தன்மை கொண்டது. கிராஃபைட் SiC உடன் பூசப்பட்ட பிறகு, ஒரு எபிடாக்சியல் வளர்ச்சி உலையில் பயன்படுத்தும்போது அது எளிதில் சேதமடையாது, இது பொருள் தேய்மான விகிதத்தைக் குறைக்கிறது.

VeTek செமிகண்டக்டர், தொழில்துறையில் முன்னணியில் இருக்கும் SiC பூசப்பட்ட வேஃபர் கேரியர் தயாரிப்புகளை வாடிக்கையாளர்களுக்கு வழங்க சிறந்த பொருட்கள் மற்றும் மிகவும் மேம்பட்ட செயலாக்க தொழில்நுட்பத்தைப் பயன்படுத்துகிறது. VeTek செமிகண்டக்டரின் வலுவான தொழில்நுட்பக் குழு எப்போதும் வாடிக்கையாளர்களுக்கு மிகவும் பொருத்தமான தயாரிப்புகள் மற்றும் சிறந்த கணினி தீர்வுகளை வடிவமைக்க உறுதிபூண்டுள்ளது.

CVD SIC திரைப்படத்தின் SEM தரவு

VeTek செமிகண்டக்டர்SiC பூசப்பட்ட செதில் கேரியர் கடைகள்