SiC பூச்சு ALD சசெப்டர்

VeTek செமிகண்டக்டர்SiC பூச்சு ALD சசெப்டர்அணு அடுக்கு படிவில் முக்கிய பங்கு வகிக்கிறது (ALD) செயல்முறை. அதன் துல்லியமான வெப்பநிலைக் கட்டுப்பாடு, சீரான வாயு விநியோகம், உயர் இரசாயன எதிர்ப்பு மற்றும் சிறந்த வெப்ப கடத்துத்திறன் ஆகியவை திரைப்பட படிவு செயல்முறையின் சீரான தன்மை மற்றும் உயர் தரத்தை உறுதி செய்கின்றன. நீங்கள் மேலும் அறிய விரும்பினால், நீங்கள் உடனடியாக எங்களை அணுகலாம், நாங்கள் உங்களுக்கு சரியான நேரத்தில் பதிலளிப்போம்!

துல்லியமான வெப்பநிலை கட்டுப்பாடு:

SiC பூச்சு ALD சஸ்பெக்டர் பொதுவாக உயர் துல்லியமான வெப்பநிலை கட்டுப்பாட்டு அமைப்பைக் கொண்டுள்ளது. படிவு செயல்முறை முழுவதும் இது ஒரு சீரான வெப்பநிலை சூழலை பராமரிக்க முடியும், இது படத்தின் சீரான தன்மை மற்றும் தரத்தை உறுதி செய்ய முக்கியமானது.

சீரான எரிவாயு விநியோகம்:

SiC பூச்சு ALD சஸ்பெப்டரின் உகந்த வடிவமைப்பு ALD படிவு செயல்பாட்டின் போது வாயுவின் சீரான விநியோகத்தை உறுதி செய்கிறது. முழு செதில் மேற்பரப்பு முழுவதும் வினைத்திறன் வாயுக்களின் சீரான கவரேஜை ஊக்குவிக்க அதன் அமைப்பு பொதுவாக பல சுழலும் அல்லது நகரும் பகுதிகளை உள்ளடக்கியது.

உயர் இரசாயன எதிர்ப்பு:

ALD செயல்முறையானது பல்வேறு இரசாயன வாயுக்களை உள்ளடக்கியிருப்பதால், SiC பூச்சு ALD சஸ்செப்டர் பொதுவாக இரசாயன வாயுக்களின் அரிப்பு மற்றும் உயர் வெப்பநிலை சூழல்களின் செல்வாக்கை எதிர்க்க அரிப்பை எதிர்க்கும் பொருட்களால் (பிளாட்டினம், மட்பாண்டங்கள் அல்லது உயர்-தூய்மை குவார்ட்ஸ் போன்றவை) தயாரிக்கப்படுகிறது.

சிறந்த வெப்ப கடத்துத்திறன்:

வெப்பத்தை திறம்பட நடத்துவதற்கும், நிலையான படிவு வெப்பநிலையை பராமரிப்பதற்கும், SiC பூச்சு ALD சப்செப்டர்கள் பொதுவாக அதிக வெப்ப கடத்துத்திறன் பொருட்களைப் பயன்படுத்துகின்றன. இது உள்ளூர் அதிக வெப்பம் மற்றும் சீரற்ற படிவு ஆகியவற்றைத் தவிர்க்க உதவுகிறது.

CVD SiC பூச்சுகளின் அடிப்படை இயற்பியல் பண்புகள்:

உற்பத்தி கடைகள்:

செமிகண்டக்டர் சிப் எபிடாக்ஸி தொழில் சங்கிலியின் கண்ணோட்டம்：